pvd真空电镀的功能原理怎么样？

pvd真空电镀的原理主要是物理气相沉积，其是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。pvd真空电镀，抗腐蚀，耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机外壳PVD镀膜抵抗力，五金镀膜厂，镀膜外壳容易清除油漆和指纹。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，不氧化，五金镀膜厂家，不脱落。高度耐磨损，耐刮擦，不易划伤。可镀材料广泛，与基体结合力强。

真空镀膜五金镀膜

什么是真空镀膜技术？

所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，宝安五金镀膜，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

、镀膜的方法及分类

在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，真空五金镀膜，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。

但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

化学组分上的均匀性：

就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

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