上述四种都属于物理气相沉积技术应用（PVD）。

接下来是化学气相沉积（CVD）。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，真空pvd镀膜厂，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。

束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。

手机真空纳米镀膜处理后，科瑞特实验室测试表明，丢在水中可以达到6小时不进水，乐平真空pvd镀膜，不损坏，在水中可以接收来电，还可以当防水相机、防水摄像机使用，在水下拍摄照片和视频。同时手机经膜立方真空纳米镀膜处理后，真空pvd镀膜公司，增加了手机表面抗划痕、抗磨损功能，不用贴膜，因此增加了手机操作的灵敏度，增加了屏幕的通透性，减少了反光干扰，可缓解眼部疲劳，真空pvd镀膜厂家，保护视力，增强了散热能力，减少了充电起火的风险，延缓热老化，减少了手机的死机概率，能有效延长手机使用寿命。更为强大的是经过真空镀膜的手机还有、防污染、防静电、防辐射的作用。

我们采用的是纯度在99.99%以上左右的锡或铟及铟锡合金。厚度在30纳米以下的锡，连续性相当的差，但能取得银白色金属光泽并具有较大的电阻。铟也是一样，但铟的银白色反光率更胜于锡的外观，因为价格较高，我们采用铟锡合金，这样既能得到不导电膜又能得到更白更亮的反光金属效果！镀铟锡不导电膜都是半透明的，所以我们要求被镀基材为透明或黑色为佳。因为镀铟锡都是在250度就开始溶化，所以蒸发的温度也相对较低，这样加热熔化及蒸发的电流和时间相对也较低。

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