PVD真空镀膜过程的均匀性
PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念：
厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
2、的附着力–可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落(PVD镀膜持有很高附着力和耐久力)。其它的技术，包括电镀，真空pvd镀膜公司，喷涂，电泳都不能与其相比。
3、镀层薄，但具有高度耐磨损，耐刮擦，真空pvd镀膜厂家，不易划伤。高硬度，低摩擦系数。不会改变基材本身的外观，比如镜面，拉砂纹，真空pvd镀膜加工，蚀刻纹，花纹，CD纹等不会覆盖。
4、可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案。
5、pvd真空电镀加工层可镀材料广泛，与基体结合力强。
6、经济，可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。
7、真空离子镀膜技术——对人体和生态环境真正无害。可替代大部分传统化学电镀技术，对环境无害，避免化学，可以使用在内装修或者室外，膜层具有生物相容性，可广泛应用于手表，首饰，手机配件等与皮肤直接接触的产品表面，特别是钛合金涂层，还可应用于生物产品上
8、用途广泛，惠州真空pvd镀膜，现在主要应用于航空航天，耐高温，高压，抗磨损零件，刀具模具，日用五金，3C电子配件，建筑装饰，电工电子，医学等。
行业内通常所说的“IP”（ion ting）离子镀膜，是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作 用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。
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