我们采用的是纯度在99.99%以上左右的锡或铟及铟锡合金。厚度在30纳米以下的锡，连续性相当的差，但能取得银白色金属光泽并具有较大的电阻。铟也是一样，但铟的银白色反光率更胜于锡的外观，因为价格较高，我们采用铟锡合金，这样既能得到不导电膜又能得到更白更亮的反光金属效果！镀铟锡不导电膜都是半透明的，所以我们要求被镀基材为透明或黑色为佳。因为镀铟锡都是在250度就开始溶化，所以蒸发的温度也相对较低，塑料真空镀膜工厂，这样加热熔化及蒸发的电流和时间相对也较低。

真空镀膜的优缺点

1、优点

表面有较好的金属质感且细腻。

颜色较水电镀可解决七彩色的问题如魔幻蓝、闪银灯；水电镀颜色较单调，一般只有亮银、亚银等少数几种。

基材材质选用范围广，如PC、ABS、PMMA，（水镀只能选择ABS、ABS PC）。

通过镀铟锡可做成半透的效果，灯光可以从产品中发出来。

不污染环境。

2、缺点

蒸镀靶材受熔点限制，太高熔点的不易采用。

真空蒸镀不过UV油，其附着力较差，要保证真空蒸镀的附着力，均需后续进行特殊的喷涂处理。

溅射镀膜又分为很多种，塑料真空镀膜加工，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，福田塑料真空镀膜，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，塑料真空镀膜厂，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld

为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。对于不同的溅射材料和基片，zui佳参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精i确控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经

比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。

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