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上述四种都属于物理气相沉积技术应用(PVD)。

接下来是化学气相沉积(CVD)。它是以化学反应的方式制作薄膜,原理是一定温度下,将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附,在基片上产生化学反应形成核,随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。

束流沉积镀,结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术,南城真空镀膜,是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料,在比较低的基片温度下,形成具有良好特性薄膜的技术。




真空镀膜加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在HV300-600,高的甚至可达到HV700以上,而电镀镍的硬度仅为 HV160-180,附近真空镀膜厂,显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后,其硬度还可以提高,可达HV900以上。

自润滑性好 经合金镀液处理过的金属表面是一种非晶态,即处于基本平面状态,有自润滑性,因此摩擦 系数小,非粘着性好。




基体外表状况对联系力的影响

  联系力通常是指一个物体粘刭另一个物体上的规模和程度。若一个镀层因机械力或变形而掉落,或被气体吹脱,或是被腐蚀而剥离,则镀层缺少联系力。联系力是电堆积的重要性能指标,它与基体资料电镀前的外表状况有着十分直接而重要的联系,而联系力的好坏又直接影响着镀层的好坏。

  若是基体资料外表存在着很多的油污、锈蚀产品等污物,电镀层不能直接与基体资料外表相联系,然后致使镀层的逐渐起皮、掉落等,金属真空镀膜,这也是镀层与基体资料外表联系力不良的原因。相反,若是在电镀前,电镀出产线上的基体资料外表得到了很好的清洗,电镀层就会直接接触到基体资料的外表,并与之结实联系。




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