厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4、真空度

5、镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，pvd真空镀膜报价，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、基片温度

3、蒸发速率

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，pvd真空镀膜公司，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

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　手机，正是由于它可以在移动中进行人们日常的沟通和交流，因而更加方便，更受欢迎。手机的发展也从原来的大、厚、重发展到今天小巧靓丽的超薄型，功能更是日渐增多，从过去简单的通话到今天、微博的火热，手机品牌更是百花齐放。尤其是老人手机、儿童手机、手机、商务手机等等定制型手机的出现，更是将全社会消费人群一网打尽。可以说手机销售市场异常。就在众商家纷纷投入到手机营销的战队中艰难拼杀的时候，关于手机防水技术研究—纳米真空镀膜备受业界瞩目。

离子镀膜

即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技术基础上发展而来的，惠东pvd真空镀膜，因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，十分清洁。

真空卷绕镀膜

真空卷绕镀膜是一种利用物理气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。

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