行业内通常所说的“IP”(ion ting)离子镀膜,是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用,塑料真空镀膜工厂,为了强调离子的作 用,而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。
相对于传统镀膜方式,真空镀膜应用属于一种干式镀膜,它的主要方法包括以下几种:
真空蒸镀
其原理是在真空条件下,用蒸发器加热带蒸发物质,丹灶塑料真空镀膜,使其气化或升华,塑料真空镀膜厂家,蒸发离子流直接射向基片,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下,在阴极接上2000V高压电,激发辉光放电,带正电的离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
基体外表状况对掩盖才能的影响
基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明,塑料真空镀膜厂,金属在不一样基体资料上电堆积时,同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬,金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时,镀液的掩盖才能顺次递减。这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时,其过电位的数值有很大的不一样。过电位较小的分出电位较正,即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值,因而其掩盖才能较好。
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