镀膜制造需要部分耗材

　　1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm，)需要根据机台配置选用

　　2.TIO2颗粒

　　3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ

　　4.监控片BK7 Φmm，需要根据机台配置选用

　　5.铜坩埚，需要根据机台配置选用

　　6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm

　　7.电子灯丝，需要根据机台配置选用

　　8.离子源，需要根据机台配置选用耗材

　　三，设备日常维修保养部件需要根据机台型号选用

　　四，光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样，尺寸可以选择，900mm，1100mm，1300mm，1350mm，金属真空镀膜加工厂家，

相对于传统镀膜方式，金属真空镀膜加工，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：

真空蒸镀

其原理是在真空条件下，石碣金属真空镀膜，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

溅射镀膜

溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，金属真空镀膜厂家，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。

　　一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。因为外表积大，其实在电流密度较低，不易到达金属的分出电位，而仅仅分出很多氢气。别的，若是基体外表镀前处置不良，存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等，也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。

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