真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，真空pvd镀膜公司，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。

为什么真空镀膜的镀铝不导电？因为镀膜总共有三层，外层的UV光油经UV照射后起到固化耐磨绝缘的作用，但是一旦这层膜被破坏就导电了。

真空镀膜技术是近年发展起来的一项新技术。它的原理是金属固体(如铝线等)在高真空状态下受热气化，再以分子或原子形态沉积在基材表面，从而在镀件表面形成一层薄薄的金属膜。由于金属气化后均匀地分布于镀膜机腔体内，中堂真空pvd镀膜，所以，真空pvd镀膜厂家，通常情况下，镀件表面形成的金属膜十分均匀。

真空电镀的前处置在电镀出产线上是电镀技术中十分关键的一步，基体资料外表处置的好坏直接影响镀层的质量，真空pvd镀膜厂，因而应对电镀前处置恰当的注重。

　　镀件的镀前处置是决议电镀质量的重要要素之一。在实习出产中，电镀故障率80%以上出在前处置工序，所以电镀前处置作用的好坏就显得尤为重要，下面详细介绍基体的外表状况对镀层布局和联系力的影响。

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